平面刻划光栅是在一块平整的玻璃或金属片上，通过刻划机加工出大量等宽度、等间距的平行刻痕制成的。这些刻痕形成了不透光部分，而刻痕之间的光滑部分则能够透光，相当于一系列平行的狭缝。平面刻划光栅主要利用光的衍射和干涉原理进行分光。当一束平行光垂直地入射到光栅上时，光波会经过每个狭缝发生衍射，并在各狭缝间产生干涉现象。不同波长的光波对应不同的衍射角，从而在屏幕上形成一系列分立的光谱线，实现光谱的分解和测量。

大功率激光光栅是激光系统中的关键光学元件，主要用于波长选择、光束分束、脉冲压缩（如啁啾脉冲放大系统）或光束合成等应用。由于高功率激光的高能量密度特性，这类光栅需具备极高的抗损伤阈值和热稳定性。

又称为Seya-Namioka型单色器光栅。独立使用像差校正单色仪光栅，可以完成光栅的色散、准直和聚焦功能。入缝和出缝位置点固定不变，通过光栅的旋转完成波长扫描过程。通过计算机优化设计，可以使这种光栅具有很小的像散和彗差。

通过计算机优化设计，可以将像差校正平像场凹面全息光栅设计为不同波长的成像点聚焦到同一平面上，这样可以使用线阵CCD接收到理想的像，工作时不需要移动光栅和接收器。

中阶梯光栅是一种高分辨率、宽波段的衍射光栅，其独特的设计使其在天文光谱、激光光谱、高精度成分分析等领域具有不可替代的作用。与普通光栅相比，它的刻线密度较低（通常 30-300线/mm），但采用高衍射级次（m=10-100），结合交叉色散技术，可实现极高的光谱分辨率。

平面全息光栅是一种采用全息干涉技术制造的衍射光栅，相比传统的机械刻划光栅，具有低杂散光、高均匀性、灵活设计等优势，广泛应用于光谱分析、激光系统、光学传感等领域。